國立中央大學工學院精密儀器中心
雙束型聚焦離子束系統開放服務說明會
各位學術先進以及產業界朋友大家好：
雙束型聚焦離子束系統(Dual-Beam Focused Ion Beam)目前在微奈米製程與材料分析中已成為不可或缺的重要技術，此技術主要包含兩種方式：移除材料(離子切割、離子輔助蝕刻)和添加材料(電子/離子輔助沈積)。本次說明會主要說明奈米/微米元件製程應用中，雙束型聚焦離子束系統的優勢與重要性，並簡介本校雙束型聚焦離子束系統(型號：Versa 3D，FEI)的功能與應用，並介紹搭配本系統上的能量散射光譜儀(Energy Dispersive Spectrometer, EDS；型號：BURKER, XFlash Detector 6060)其原理和強大分析能力。
中央大學貴重儀器中心及工學院精密儀器中心之場發射雙束型聚焦離子束顯微鏡，獲得教育部發展國際一流大學計畫及國科會經費補助，目前儀器已安裝驗收測試完成。為鼓勵學界及產業界多加利用本儀器進行研究，特舉辦研討會說明儀器性能及應用，邀請您蒞臨參加。
本中心Dual-beam FIB系統(Versa 3D，FEI)外觀
本中心Dual-beam FIB製備試片實例：矽微奈米柱製作(左)及XTEM試片製作(右)。
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儀器名稱:雙束型聚焦離子束系統(Dual-beam FIB)
廠牌型號: Versa 3D，FEI
系統規格：
- 聚焦離子光學系統
- 高離子電流Ga液體金屬離子源
- 加速電壓: 2~30 KV
- 離子束電流: 65 nA
- 放大率:40X~1,200,000X
- 離子束解析度:7 nm at 30 KV
- 監控型掃描電子光學系統
- 高亮度、高電流值、高解析場發射電子槍
- 加速電壓:200 V~30 KV
- 電子束電流:0 to 200 nA連續式調整
- 放大率:40X~1,200,000X
- 解析度: 高真空解析度2 nm at 30 KV
- 多選擇型功能性氣體系統
- 個別獨立氣體導入系統，可重新置換
- 離子束沉積Pt電極，電阻為KΩ等級以下
系統功能：
穿透式電子顯微鏡(TEM)試片製作，定點縱剖面切割
選擇性的材料表面蒸鍍處理，奈米級結構製作
三維成像分析，強化性蝕刻或選擇性蝕刻
電子線路編輯或修復
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中央大學研發處貴重儀器中心主任 高憲明
中央大學工學院精密儀器中心主任 鄭憲清 敬邀
| 主辦單位： |
國立中央大學工學院精密儀器中心
國立中央大學研發處貴重儀器中心 |
| 地 點： |
國立中央大學工五館一樓A棟E6-A102室會議廳 |
| 協辦單位： |
美商飛昱有限公司
台灣布魯克生命科學股份有限公司 |
| 日 期： |
民國102年4月12日(星期五) |
| 連絡人 : |
李明宗博士 03-4227251#27255, E-mail: fib.ncu@gmail.com |
報名表
| 單位名稱 (實驗室名稱) : |
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| 參加者姓名 |
連絡電話 |
E-mail |
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說明會當日備有茶點，欲參加者請於民國102年4月3日前將報名表回傳至 fib.ncu@gmail.com。因為場地限制，各實驗室報名人數上限三人，總報名人數上限為120名，額滿為止，謝謝您的參加。
【雙束型聚焦離子束系統開放服務說明會內容及時程】
| 時 間 |
講 題 |
主 講 人 |
單位職稱 |
12:30
~
13:00 |
報到 |
13:00
~
13:10 |
長官致詞 |
劉振榮
陳志臣
鄭憲清 |
中央大學研發處 研發長
中央大學工學院 院長
中央大學工學院 精儀中心主任 |
13:10
~
14:00 |
能量散射光譜儀(Energy Dispersive Spectrometer, EDS)的原理與分析應用 |
楊詠暉
工程師 |
台灣布魯克生命科學股份有限公司 |
14:00
~
15:00 |
聚焦離子束(FIB)顯微鏡之功能與應用 |
羅聖全
博士 |
工研院材化所 |
15:00
~
15:20 |
～休息～ Coffee break （備有茶點） |
15:20
~
16:10 |
場發射雙束型聚焦離子束顯微鏡的原理與應用 |
朱郁賢
工程師 |
美商飛昱科技股份有限公司 |
16:10
~
17:00 |
儀器操作簡介、儀器預約、管理辦法說明及討論 |
李勝偉
副教授 |
中央大學材料所(儀器負責老師) |
