儀器服務
高解析掃描穿透式電子顯微鏡(HR-STEM)
為日本JEOL公司 JEM-2100。購買於民國95年，主機配備有能量散射光譜分析儀(EDS OXFORD/Inca Energy
250)搭配STEM功能，可做微區化學成份分析原子序B5~U292的元素及Mapping/Linescan，附加數位影像系統(Gatan/894 2K UltraScan
Camera)，可作數位影像擷取及分析、離子研磨機(Gatan dual ion miller)及凹片機(Dimpler)
聯絡分機 : 34009 聯絡人 : 翁小姐 < ncuicusj@cc.ncu.edu.tw
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低真空掃描式電子顯微鏡 (LV-SEM)
由日本HITACHI公司 S-3500N 主機於民國88年購買重要規格:Resolution : 3.5mm；Image
Mode : SEI, BEI；Volgate : 0.3-30Kev；主要附件:鍍金(碳)機；EDS系統(Noran Vvantage DI)；鍍金(碳)機
在樣品表面鍍導電金膜碳膜EDS系統 分析樣品中之元素(B-U)
聯絡分機 : 34010 聯絡人 : 林小姐 < huei@cc.ncu.edu.tw
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X光粉末繞射儀(XRD)
西德BRUKER公司生產之D8AXRD，可鑑別試樣之結晶組成與分析。具操作軟體，包括資料處理軟體、分析軟體及完整之JCPDS資料，可方便的處理試驗結果。
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氮氣吸附孔隙儀(ASAP)
美國Micromeritics公司之ASAP2010氮吸附孔隙儀2部,購於民國79年 和89年，保養甚佳，使用頻繁。並配有曾添加微孔分析附件，可測低於10埃之微孔或用Ar氣吸附。
聯絡分機 : 34007 聯絡人 : 黃小姐 < raimay@cc.ncu.edu.tw
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熱微差掃描分析儀(DSC)
美國PERKIN ELMER公司兩台：
1. 型號TGA-7，分別為民國79年和83年。測定溫度範圍可由-160至600℃，精確度1μw。
2. 型號Diamond一台，民國95年購置，測定溫度範圍可由-70至700℃，精確度1μw
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熱重分析儀(TGA)
測定溫度範圍可由50至1000℃，精確度1μｇ。美國PERKIN ELMER公司之TGA-7,民國79年購置
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場放射掃描式電子顯微鏡(SEM)
為日本HITACHI公司S-800型主機，配備KEVEX LEVELⅢ之X光能譜儀(EDS)，不僅可進行表面形態觀察並可提供微區元素分析。自81年3月啟用以來，功能良好，保養維護佳，分析結果準確性高。
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穿透式電子顯微鏡(TEM)
為日本JEOL公司JEM-2000FXΠ。購於民國81年，另有附屬設備：離子研磨機(Gatan dual ion miller)及凹片機(Dimpler)。
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VG Sigma Probe光電子/歐傑電子能譜儀(Auger/ESCA)
廠牌 : 英國Thermo VG-Scientific
型號 : Sigma Probe
功能 : VG Sigma Probe光電子/歐傑電子能譜儀(Electron Spectroscopy for Chemical
Analysis, ESCA/Auger) 包括下列幾項附件
1. Micofocus Monochromator Alanode X-ray(XPS，mapping，depth profile)
2. 場發射電子槍(歐傑電子能譜) Field emission AUGER facility(SEM,SAM.depth
profile)
3. 紫外線光源(紫外光電子能譜) UPS facility
4. 樣品準備室配備加熱冷卻裝置及高壓反應槽( preparation chamberfit with heating
and cooling device and high pressure gas cell) AUGAR和XPS皆可進行微區及全區掃描，和從深分析。XPS空間分析可達15um，AUGAR空間分析可達95um
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雷射粒徑分佈儀(DLS)
可分析液相中懸浮粒子之顆粒大小、界達電位及其分佈。懸浮粒子之種類包含蛋白質、有機/無機奈微米顆粒、藥物、碳粉、墨水等，若其粒徑介於0.6nm~6000nm時，即可進行粒徑及粒徑分佈(PDI)之量測；除了粒徑分析外，亦可對粒子之界達電位進行量測，此方面可應用於水處理、乳液穩定性鑑定等。
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超高解析可變真空場發射掃描式電子顯微鏡
廠牌：FEI
電子槍：熱場發電子源
電子槍真空度：3×10-7 Pa
解析度：
High Vacuum 1.0nm at 15Kv；1.6nm at 1 Kv
Low Vacuum 1.5nm at 10Kv；1.8nm at 3 Kv
加速電壓：50v~30Kv
試片大小限制： 1.0mm~2.0mm
試片載台：中心式試片台
1. X-Y 移動範圍 X-50mm Y-50mm
2. 旋轉範圍 360º
3. 工作距離 0.5mm~50mm
4. 傾斜角度 -15º ~ +15º
影像取檔： FTP 存取
X光能量散譜儀
廠牌：Bruker
X光偵測器：SDD
解析度： <125eV
偵測範圍：B5~U92
Analyzer：Qualitative analysis、Spectrum comparison、Quantitative
analysis
Mapping： Line scan、Smart Map
資料取檔： FTP 存取
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(低掠角/穿透式)小角度X光散射儀(Grazing Incidence/TransmissionSmall-angel
X-ray Scattering)
為Rigaku- NANO-Viewer。購於民國100年，主機配備包括一部
(1)X光產生器：高能量微焦點陽極旋轉靶、
(2)點收束型集光鏡: 小角度X光散射儀之微光源及小角度X光散射針孔光學系統：反射式及穿透式小角度X光散射量測、
(3)垂直面＆平行面GISAXS薄膜量測附件+溫度附件(室溫至200 oC)及固體液體粉體溫度控置樣品室及所需試樣容器配件
(4)偵測計數器：二維面積型偵測器A.R-AXIS DS3C(IP)及B.2次元Si半導體検出器，還有
(5)分析軟體：粒徑和孔徑分佈解析，低介電薄膜孔徑分佈解析，長周期構造解析，配向度解析，結晶化度解析，動徑分佈函數解析。
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場發射掃描式電子顯微鏡
儀器設備廠牌及型號: FEI，Inspect F50，系統規格：
1. 電子光源: 熱場發射電子槍。
2. 操作電壓: 300 V ~ 30 KV。
3. 電子束解析度: 1.0 nm (30 KV) ; 3.0 nm (1 KV)。
4. 放大倍率: 14 to 1000000 x。
5. 高真空系統: < 6e-4 Pa。
6. 樣品台: X-Y: 50 mm; Z: 50 mm; Tilt angle: -15°to +75°;Rotation
angle: 360°。
服務項目：
1. 電子影像觀察及照相 (SE, BSE)。
2. EDS定性及半定量分析。
本儀器僅具高真空模式且為熱場發式電子槍，高揮發、低熔點、低導電性等不穩定之樣品應優先至可變真空或冷場發式SEM分析。
場發射掃描式電子顯微鏡系統管理委員會：
管理委員會成員：材料所 張仍奎教授、材料所 李勝偉教授、化材系 李岱洲教授。(召集人：材料所
張仍奎 (03) 4227151轉34908)