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儀器名稱
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X光光電子能譜儀(ESCA)—國科會貴重儀器
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功能介紹
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化學分析電子能譜儀，又名X射線光電子能譜儀(X-ray Photoelectron Spectroscope, XPS)，是設計來進行物質表面定性與定量的化學分析。ESCA的基本功能為全能譜分析(survey
analysis)、元素線掃描(line scan)、化學成像(chemical imaging)與成分縱深分佈(depth profiling)。成分縱深分佈包括離子濺擊縱深分佈與適用於超薄薄膜之角度解析(angle-resolved)縱深分佈兩種。
本設備的特殊功能包括
(1) 利用在陽極掃描之聚焦電子束產生掃描式微米尺寸X射線。
(2) 產生掃描式X射線激發二次電子影像(scanning X-ray induced (SXI) secondary electron imaging)。
(3) 電中和系統採用冷陰極電子與低能量離子雙槍模組。
(4) 配備C60離子槍。
這些特點使本設備能夠進行
(1) 微區定位與分析。
(2) 高效率自動化電中和作用。
(3) 低損害之濺擊，消除濺擊造成之化學位移(chemical shift)。
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廠商資訊
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公司名稱:博精儀器股份有限公司
地址:台北市基隆路一段159號16樓
電話:02-27467620
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儀器相片或圖示
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儀器名稱
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奈米壓痕分析系統(MTS XP)—東華大學奈米科技研究中心儀器
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功能介紹
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本中心奈米壓痕系統Nano indenter XP具有獨家CSM量測系統，可精確量測薄膜之硬度值、彈性係數、潛變係數等，另配備LFM系統，可獲得摩擦係數等數據，並可以Nano
vision功能進行試片表面形貌量測。另配備高解析度定位平台與程式化路徑設定功能，利於量測特定位置組成相之機械性質。主要及特殊功能簡述如下:
1.連續動態量測系統“CSM” ( continuous stiffness measurement)，具量測沿試件厚度縱深方向連續機械性質功能，可獲得奈米等級多層膜中各層薄膜之特性。此外，亦可判定基板效應等影響，增加試驗結果的精準性。2.奈米三維量測系統
“nano vision”，可在不更換壓痕針頭情況下，對指定位置直接進行測試及壓痕形貌掃描，與其它廠商產品須以AFM進行掃描相較，定位更為精準與便利。3.側向力量測系統“LFM”
(lateral force measurement)，可進行奈米薄膜摩擦係數及接合強度等性質量測，使本設備具全方位之量測功能。
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廠商資訊
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公司名稱:國科企業有限公司
地址:台北市內湖區成功路四段168號四樓 電話:02-27922440
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儀器相片或圖示
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